Las líneas de investigación que son llevadas acabo por el Grupo de Física de Plasma (GFP ), involucran la interacción de plasmas con superficies ya sea tanto en la generación de films delgados de propiedades específicas como en los tratamientos de superficies por plasma.
Especificamente el GFP realiza trabajos de investigación en los que se estudia la interacción de plasmas con la superficie de materiales. Ejemplos de estas interacciones son la implantación iónica o la nitruración ionica por plasma, las cuales provocan en las superficies de las muestras modificaciones que tienen un marcado interés científico tecnológico, logrando por ejemplo superficies más eficientes desde el punto de vista tribológico.
La generación de films delgados mediante las técnicas de Deposición Física en Fase Vapor Asistida por Plasmas (PAPVD) son generalmente realizadas mediante cabezales del tipo magnetron. Los recubrimientos o films logrados mediante estas técnicas estan abarcando cada vez más campos de aplicación. Las características físicas de los films, sus propiedades estructurales, eléctricas, magnéticas, etc así como su estructuras cristalinas están en relación directa con los parámetros con los cuales se realiza la descarga y su relación no esta debidamente comprendida. Con reactores propios desarrollados por el GFP se generan materiales en fase de vapor, con lo que se pueden desarrollar tanto films delgados como sistemas multicapas que dependiendo de los materiales evaporados tendrán distintas propiedades de alto interés tecnológico. La posibilidad de combinar mecanismos de evaporación ya sea por cabezales magnetrón o cañon electrónico da al grupo una gran pontencialidad de trabajo y de materiales posibles a desarrollar para su estudio y caracterización.
Los plasmas utilizados, emiten luz, desde las diferentes zonas que se pueden diferenciar en las descargas, proveniente de las reacciones presentes. La Espectroscopıa óptica de emisión (OES) es una técnica no invasiva y relativamente fácil de utilizar. Por lo que los métodos basados en OES pueden ser aplicados para caracterizar una amplia variedad de plasmas. El GFP cuenta también con el equipamiento para estudiar las líneas y bandas de emisión de los plasmas que se generan en estos tratamientos lo que permite una caracterización por OES de la cinética de la descarga presente en estos procesos, lo cual constituye una de las principales lineas de investigación del grupo.

Lineas de investigación llevadas a cabo por GFP:

  • Generación y caracterización de films delgados por magentron sputering de compuestos binarios (como AlN, SiN) y ternarios (AlTiN).
  • Generacion de sistemas multicapas de metales puros por cañon electrónico.
  • Generación y caracterización de films delgados de materiales con memoria de forma.
  • Estudio por OES de los plasmas utilizados en descargas por magnetron sputtering presentes en la generación de filmes delgados. Lograr una adecuada caracterización por OES de las descargas utilizadas con el fin de utilizar esta información para el desarrollo de mecanismos de control que permitan la repetitividad de las características buscadas en los films desarrollados.